광학 진공 코팅기 코팅 기술

광학 진공 코팅기는 휴대 전화 카메라, 휴대 전화 케이스, 휴대 전화 화면, 컬러 필터, 안경 렌즈 등과 같이 업계에서 널리 사용됩니다. 정밀도 표준이 매우 높으며 AR과 같은 다양한 코팅이 코팅 될 수 있습니다. 반사 방지 필름, 장식 예술 플라스틱 필름, 모터 세라믹 필름, 개선된 반사 필름, ITO 전도성 필름 및 방오 필름은 시장에서 높은 판매 비율을 가지고 있습니다.

광학 진공 코팅기는 어떤 처리 기술을 사용하여 많은 층을 코팅합니까?

광학 진공 코팅 기계가 휘발 축적되면 진공 시스템의 소스 원료가 가열되거나 이온 빔 음전자가 휘발됩니다. 증기가 광학 표면에 있는 것으로 의심됩니다. 휘발 기간 동안 정밀한 가열 조작, 진공 펌프의 작동 압력, 기판의 정확한 위치 및 회전에 따라 특수 두께의 균일한 광학 코팅을 생성할 수 있습니다. 휘발은 비교적 완만한 특성을 가지므로 코팅이 점점 더 느슨해지거나 다공성이 됩니다. 이러한 종류의 느슨한 코팅은 물을 흡수하는 능력이 있어 필름의 적절한 굴절률을 변화시켜 특성이 저하됩니다. 휘발성 코팅은 전자빔이 웨이퍼 표면으로 향하는 동안 전자빔 보조 증착 기술에 의해 향상될 수 있습니다. 이것은 소스 재료의 상대적인 광학 표면층의 흡착을 향상시켜 많은 양의 내부 응력을 유발하여 코팅의 밀도와 내구성을 향상시킵니다.

고에너지 정전기장은 광학 진공 코팅기의 전자빔 마그네트론 스퍼터링(IBS)에서 전자빔을 가속할 수 있습니다. 이러한 순간 속도는 양이온에서 상당한 기계적 에너지를 유도합니다. 소스 물질과 충돌하면 전자빔이 타겟 물질의 분자를 "마그네트론 스퍼터링"합니다. 마그네트론 스퍼터링된 타겟 양이온(분자는 가수분해 영역에 의해 양이온으로 전환됨)도 기계적 에너지를 가지고 있어 광학 표면과 접촉할 때 단단한 막을 형성합니다. IBS는 정확하고 반복 가능한 기술입니다.

광학 진공 코팅기 플라즈마 마그네트론 스퍼터링은 고급 플라즈마 마그네트론 스퍼터링 및 마그네트론 스퍼터링과 같은 일련의 기술을 총칭하는 용어입니다. 어떤 기술이든 플라즈마 생성을 포함합니다. 플라즈마의 양이온은 소스 재료로 가속되어 느슨한 에너지 양이온과 충돌한 다음 전체 대상 광학 부품에 마그네트론 스퍼터링이 발생합니다. 서로 다른 유형의 플라즈마 마그네트론 스퍼터링에는 고유한 특성, 장점 및 단점이 있지만 동일한 원리, 차이점이 있기 때문에 이 기술을 함께 결합할 수 있습니다. 이러한 종류의 코팅 기술과 종이를 비교하는 다른 코팅 기술 서로 훨씬 덜 다릅니다.

분자층 증착(ALD)에 사용되는 원료 물질은 휘발 증착과 달리 액체에서 휘발되지 않고 즉시 증기의 형태로 존재합니다. 이 공정은 증기를 사용하지만 진공 시스템에서는 여전히 높은 주변 온도가 필요합니다. ALD의 전체 과정에서 가스 크로마토그래피 전구체는 인터리브되지 않은 단일 펄스에 따라 전달되며 단일 펄스는 자체 구속됩니다. 이러한 유형의 처리에는 고유한 화학적 설계 방식이 있으며 각 단일 펄스는 하나의 레이어에만 부착되며 광학 표면 레이어의 기하학적 구조에 대한 특별한 요구 사항은 없습니다. 따라서 이러한 유형의 처리를 통해 코팅의 두께와 디자인을 비교적 높은 수준으로 제어할 수 있지만 축적 속도는 감소합니다.